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中国制造业中,芯片制造始终扮演关键角色,其中光刻机作为半导体工业的中坚力量,被誉为“比原子弹还稀有”。光刻机利用光刻技术将芯片设计版图投影到晶圆上,与照片投影到胶片类似,通过显影、刻蚀等工艺将图案转移到芯片平台上,是半导体工业至关重要的制程技术。
以下为光刻机优质龙头股一览:
蓝英装备:控股子公司UCM AG为荷兰光刻机制造商ASML公司提供精密清洗解决方案。
波长光电:在半导体应用领域,公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套,并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。
茂莱光学:基于核心技术生产的光刻机曝光物镜用光学器件最大口径可达直径300mm。
晶瑞电材:购得ASML XT 1900Gi型光刻机一台,已运抵公司高端光刻胶研发实验室,正积极组织资源进行安装调试。
张江高科:通过旗下全资子公司间接参股上海微电子装备,旗下600系列光刻机可满足IC前道制造关键层和非关键层的光刻工艺需求。
东方嘉盛:与国际头部芯片光刻机厂商合作,在深圳建设寄售维修保税仓库,为华南集成电路制造企业提供全天候快速响应的光刻机寄售维修服务。
百川股份:生产光刻机溶剂PMA,产能为5万吨/年。
新莱应材:半导体真空系统和气体系统服务于所有半导体设备供应商和终端制造商,光刻机相关工艺需在超高真空及特殊气体条件下完成。
产业链核心个股全面覆盖,包含整机、组件、光引发剂、树脂&溶剂、光刻胶等,具体如下:
整机:张江高科、东方明珠、东方电气、奥普光电
组件:蓝英装备、苏大维格、京华激光、福晶科技、波长光电、赛微电子、电科数字、晶方科技、同飞股份、海立股份、联合精密
光引发剂:久日新材、扬帆新材、强力新材、同益股份
树脂&溶剂:西陇科学、圣泉股份、百川股份、国风新材、长青科技
光刻胶:容大感光、广信材料、雅克科技、上海新阳、彤程新材、南大光电、高盟新材、飞凯材料、晶瑞电材、双乐股份
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